اشرح بالتفصيل عملية التشغيل الكاملة لمرشح شمعة RKSfluid

وسط مرشح الشمعة ، وجدار جامع الليل صلبة ، والغرض من ذلك هو القضاء تماما على الليل من وحدة التصفية. يحتوي أنبوب المرشح ، كدعم لوسط المرشح ، على فتحة في جدار الأنبوب المجمع. فتحات أنبوب مرشح نموذجي. يتم ضغط وسيط الفلتر على أنبوب الفلتر المجمع أثناء عملية الترشيح. كعكة الترشيح ، غرفة التجميع ، توصيل الأنبوب المركزي وأنبوب الترشيح. امسح المحلول واترك المرشح من أنبوب الوسط ، مع تعليق بدون فلتر.

يجمع مرشح الشموع RKSfluid بين عدد وافر من عناصر المرشح التي يسهل اختراقها في حاوية مغلقة ، ويقوم بترشيح قطعة القماش المرشحة (أو وسط المرشح الآخر) على غلاف المرشح. عند التصفية ، يتم إرسال الملاط إلى المرشح بواسطة المضخة ، والسائل الموجود في الملاط يمر الطور عبر وسيط المرشح ويدخل في وسط عنصر المرشح المسامي ويتم تفريغه إلى مخرج السائل الصافي. قبل تكوين طبقة كعكة المرشح ، يتم إرجاع "السائل الشفاف" المفرغ إلى مدخل ملاط ​​المادة الخام وإرساله إلى المرشح للترشيح الدوراني حتى يتم تشكيل طبقة كعكة المرشح. (قادر على تلبية متطلبات الترشيح) ، مع توفير إشارة للتحكم في السائل الشفاف دون إعادة التدوير ، يتم إرسال السائل الشفاف إلى العملية التالية من خلال صمام ثلاثي الاتجاهات للترشيح العادي.

بعد تصفية مرشح الشموع عادة لفترة من الوقت ، عندما تصل طبقة كعكة المرشح على الفتيل المسامي إلى سمك معين ، فإن معدل مرور المرشح خلال كعكة المرشح يتناقص ، وتدهور كفاءة الترشيح ، ويزيد ضغط المرشح ، في الوقت الذي يوفر مفتاح الضغط التفاضلي (أو الضغط) المستشعر) إشارة إلى PLC لإيقاف مضخة التصفية ، وإغلاق صمام التغذية ، وفتح صمام ضربة موجبة ، ثم استنزاف السائل المتبقي في المرشح. عندما يكون السائل الموجود في المرشح أقل من عنصر المرشح ، افتح السائل المتبقي لصمام التصريف من خلال صمام التصريف. التصريف ، عندما ينخفض ​​الضغط داخل المرشح بسرعة ، يستقبل PLC إشارة الضغط المنخفض ، ويغلق صمام الضربة الموجبة ، ويفتح صمام ضربة الظهر (الهواء المضغوط ، النيتروجين أو البخار المشبع) للتسرب الخلفي ، بحيث تسقط كعكة المرشح ضربات خلفية لفترة زمنية معينة (30 ثانية) ، ووقف التدفق الخلفي ، وفتح منفذ تفريغ خبث الفلتر من أجل الخبث ، وإغلاق منفذ تفريغ الخبث بعد تفريغ الخبث ، واستكمال دورة الترشيح ، والعودة إلى الحالة الأولية قبل الترشيح ، والاستعداد ل الجولة التالية من الترشيح.

مرشح الشمعة يتوقف عن الترشيح ويضغط الغاز في الخزان. تحت تأثير الغاز المضغوط ، يستمر ترشيح المحلول الموجود في الخزان (يمكن معالجة المرشح بطريقة مختلفة وفقًا لمتطلبات الجودة الخاصة بالوسيط والسائل الشفاف). بعد اكتمال الترشيح ، يمكن تصريف الغاز المتبقي من خلال الاعتماد على غاز مضغوط أو مضخة سائلة متبقية. يتم إدخال الغاز المضغوط بانتظام في عنصر المرشح من مخرج السائل الشفاف ، ويتم تفريغ الشوائب الموجودة في عنصر المرشح المعدني ؛ يقوم عنصر مرشح كيس المرشح بضغط الغاز ليتسبب في تمدد كيس المرشح واهتزازه ، وتسقط الشوائب مع الارتعاش ، في عنصر المرشح يتم تفريغ الشوائب بواسطة الغاز. يتم تفريغ شوائب السقيفة من منفذ التفريغ السفلي للمرشح.

خصائص الأداء
1. عملية بسيطة ومريحة ، مساحة أرضية صغيرة وسهلة التركيب ؛
2. دقة الترشيح عالية ، ومناسبة لأي جزيئات دقيقة أو المواد العالقة.
3. منطقة الترشيح الفعالة كبيرة ، ووظيفة الترشيح في كيس مرشح واحد تعادل 5 ~ 10 مرات من نفس النوع من عنصر المرشح ، مما يمكن أن يقلل التكلفة بشكل كبير ؛
4. تستخدم على نطاق واسع ، يمكن استخدامها للترشيح الخشنة أو الدقيقة.
5. تدفق المعالجة لكل وحدة من منطقة الترشيح كبير ، المقاومة صغيرة ، وكفاءة الترشيح عالية ؛
6. في إطار فرضية تحقيق نفس تأثير التصفية ، فإنه يتمتع بمزايا أكبر من مرشحات المرشحات وفلترات معالجة المياه الخام ، وتكلفة استثمار منخفضة ، وتكلفة ترشيح منخفضة ، وعمر خدمة طويل.